TDV ETCH

Optische metrologie- en inspectietoestel voor BEOL

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

Imec EU Pilot line NV · Heverlee

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confovis GmbH

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High Throughput Frontside Wet Clean Tool

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

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TOOL VOOR ENKELWAFELVERWERKING

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

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SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.

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FEOL CLEAN CLUSTER

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

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Digitale tester setup lot 2

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

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FEOL PEALD PLATFORM

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

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MASS METROLOGY TOOL

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

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Lam Research International Sdn. Bhd.

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MICRO SCALE SHEET RESISTANCE PROBER

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

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KLA Corporation

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EUV TRACK (HNA/LNA)

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

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Tokyo Electron Europe Limited

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Automated TEM Analysis Platform

Equipo de laboratorio, óptico y de precisión (excepto gafas)· traducción automática de TED

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FEI EUROPE BV

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Gara europea a procedura aperta, suddivisa in n. 2 lotti, per fornitura e installazione di attrezzature per il potenziamento della Micro Nano Facility della Fondazione Bruno Kessler nell'ambito dell'Iniziativa Progetto IPCEI Microelettronica 2 MC2 Lotto 1: Sistema stepper per litografia KrF Lotto 2: Sistema di coating e sviluppo per processi litografici

FONDAZIONE BRUNO KESSLER · Trento

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8,8 M€

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Canon Europa N.V. · Tokyo Electron Limited

Gara europea a procedura aperta, suddivisa in n. 2 lotti, per fornitura e installazione di attrezzature per il potenziamento della Micro Nano Facility della Fondazione Bruno Kessler nell'ambito dell'Iniziativa Progetto IPCEI Microelettronica 2 MC2 Lotto 1: Sistema stepper per litografia KrF Lotto 2: Sistema di coating e sviluppo per processi litografici

Instrumentos ópticos especializados· traducción automática de TED

Fondazione Bruno Kessler · TRENTO (TN)

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8,8 M€

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Canon Europa N.V. · Tokyo Electron Limited

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